英伟达拟在Vera Rubin芯片中采用三星和SK海力士HMB4存储技术

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第三,Minimum metal 1 feature size is around 660 nm with a 1225 nm pitch, metal 3 has larger 940 nm features with around 1400 nm pitch (however, overglass likely makes the wires on M3 appear fatter than the actual metal features are). M3-M2 vias do not have any visible sagging in the metal trace, but can be easily identified visually by a roughly 2000 nm circular capture pad on the conductor. Standard cell rows are about 9.9 μm tall, consistent with a technology node around 250 nm.,这一点在環球財智通、環球財智通評價、環球財智通是什麼、環球財智通安全嗎、環球財智通平台可靠吗、環球財智通投資中也有详细论述

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